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채용/모집

한국나노기술원 (제3기 기반과정) 양자기술구현을 위한 E-beam Lithography 직접사용교육(실습) 모집 안내

관리자 2023-09-25 조회수 371
(제3기 기반과정) 양자기술 실습교육 포스터.jpg


한국나노기술원에서 양자기술신진인력양성을 목적으로 양자기술구현을 위한 E-beam Lithography 직접사용교육을 개최합니다.

관심있는 분들의 많은 참여와 신청 바랍니다.



교 육 명 : 양자기술구현을 위한 E-beam Lithography 직접사용교육(실습)

교육목표 : 양자 컴퓨터의 동작 원리 및 유형별 Qubit 구조를 이해하고 이를 제작하는 주요 공정장비를 직접 사용할 수 있는 신진/전문 인력양성

교육안내

교육대상 : 양자기술분야에 관심 있는 대학()생 및 졸업자(미취업자), 재직자(연구원포함)

교육기간 및 모집인원

. 기초이론 교육(선택과정)

이론교육(선택)

모집인원

교육일정

비고

기초이론(초급)

20명이내(선착순)

23.10.30 ~ 31

 

기초이론(중급)

20명이내(선착순)

23.11.01 ~ 02

 

. 기반기술 직접사용(실습) 교육(필수과정)

실습교육(필수)

모집인원

교육일정

비고

기반기술

9

(선착순)

A(23.10.11.~12)

3

예비 3명 별도 모집

*결원발생시 충원

B(23.10.18.~19)

3

C(23.10.25.~26)

3

교육장소 : 한국나노기술원(수원 영통 광교로 109) 5층 양자교육장 및 Fab.

교육지원 : 교육비(무료), 중식(제공), 수료증 발급, 교재 및 실습기자재(제공)

신청기간 : 2023925() ~ 1006() * 선착순으로 마감되는 경우 조기 종료될 수 있음

신청방법 : 홈페이지(www.kanc.re.kr) 접속 > 교육공고 > 교육 신청

문의처 : 나노인력양성실(김정수), 031-546-6514, jeongsoo.kim@kanc.re.kr