본문 바로가기 주메뉴 바로가기

행사 정보

(제2기 기반과정) 양자기술구현을 위한 E-beam Lithography 직접사용교육(실습)

관리자 2023-08-01 조회수 732


2023년 양자기술 신진인력양성



(2기 기반과정) 양자기술구현을 위한 E-beam Lithography 직접사용교육(실습)



교 육 명 : 양자기술구현을 위한 E-beam Lithography 직접사용교육(실습)

교육목표 : 양자 컴퓨터의 동작 원리 및 유형별 Qubit 구조를 이해하고 이를 제작하는 주요 공정장비를 직접 사용할 수 있는 신진/전문 인력양성

교육안내

교육대상 : 양자기술분야에 관심 있는 대학()생 및 졸업자(미취업자), 재직자(연구원포함)

교육기간 및 모집인원

 

. 기초이론 교육(선택과정)

이론교육(선택)

모집인원

교육일정

비고

기초이론(초급)

20명이내

(선착순)

23.08.28 ~ 29

 

* 차기 기초이론 일정(예정) : 10(/중급), 12(/중급)

 

. 기반기술 직접사용(실습) 교육(필수과정)

실습교육(필수)

모집인원

교육일정

비고

기반기술

9

(선착순)

A(23.08.16.~17)

3

예비 3명 별도 모집

*결원발생시 충원

B(23.08.23.~24)

3

C(23.08.30.~31)

3

교육장소 : 한국나노기술원(수원 영통 광교로 109) 5층 양자교육장 및 Fab.

교육지원 : 교육비(무료), 중식(제공), 수료증 발급, 교재 및 실습기자재(제공)

신청기간 : 202381() ~ 84() * 선착순으로 마감되는 경우 조기 종료될 수 있음

신청방법 : 홈페이지(www.kanc.re.kr) 접속 > 교육공고 > 교육 신청




문의처 : 나노인력양성실(김정수), 031-546-6514, jeongsoo.kim@kanc.re.kr