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공지사항

(한국나노기술원) 양자기술구현을 위한 E-beam Lithography 사용 교육 (선착순 마감)

관리자 2023-05-17 조회수 625

양자기술구현을 위한 E-beam Lithography 직접사용교육(실습)


교 육 명 : 양자기술구현을 위한 E-beam Lithography 직접사용교육(실습)

교육목표 : 양자 컴퓨터의 동작 원리 및 유형별 Qubit 구조를 이해하고 이를 제작하는 주요 공정장비를 직접 사용할 수 있는 신진/전문 인력양성

교육안내

교육대상 : 양자기술분야에 관심 있는 대학()생 및 졸업자(미취업자), 재직자(연구원포함)

교육기간 및 모집인원

- 모집인원 : 9(선착순 마감) * 결원 시 예비 인원으로 충원 모집 예정

. 기초이론(공통) : 9

. 직접사용(실습) : 9, 3/3개조로 편성하여 운영

구분

기초이론(공통), 3

직접사용(실습), 3

비고

모집

인원

9(23.06.07~09)

A(23.06.12.~14)

3

예비 2명 별도

B(23.06.19.~21)

3

예비 2명 별도

C(23.07.03.~05)

3

예비 2명 별도

교육장소 : 한국나노기술원(수원 영통 광교로 109) 5/ 6층 교육장 및 Fab.

교육지원 : 교육비(무료), 중식(제공), 수료증 발급, 교재 및 실습기자재(제공)

신청기간 : 2023517() ~ 31()

* 교육생 선발은 선착순 마감이며, 조별 3명씩(예비 2명 별도) 모집합니다.

신청방법 : 홈페이지(www.kanc.re.kr) 접속 > 교육공고 > 교육 신청 그림입니다.

원본 그림의 이름: QRCodeImg.jpg

원본 그림의 크기: 가로 357pixel, 세로 357pixel

 

문의처 : 나노인력양성실(edu@kanc.re.kr) 031-546-6514(김정수), 6211

기타 안내사항

교육과정은 총 3단계(기반과정, 응용과정, 직무연수과정)로 구성되며 본 공고는 기반과정에 해당합니다.

교육신청 인원이 적을 경우, 해당 교육과정은 개설되지 않을 수 있습니다.

중식은 무료로 제공되나, 주차요금은 지원되지 않으므로 대중교통 이용바랍니다.

교육생 선발 여부는 교육 시작 약 1주일 전에 개별 안내 예정입니다. (이메일 및 문자)

본 과정은 실습을 포함한 전체 6일 과정으로 일정을 충분히 고려하여 신청해주시기 바라며, 사전 연락 없이 불참 시 이후 교육과정 신청이 제한될 수 있습니다.

 

세부 교육 내용

교육과정명

(기반) 양자기술구현을 위한 E-beam Lithography 직접사용교육

교육목표

양자 컴퓨터의 동작 원리 및 유형별 Qubit 구조를 이해하고 이를 제작 할 수 있는 주요 공정장비를 직접 사용할 수 있도록 함

교육내용

중첩과 얽힘, delayed choice 등의 실험 사례를 통해 양자현상 이해

Classical computer 와 양자 컴퓨터 비교를 통해 동작 원리 이해

양자 알고리즘 및 응용 분야 소개

Qubit 을 표현하는 방식 및 양자 로직 게이트 소개

유형별 Qubit 구조, 구성 및 공정 (초전도, 양자점, 이온트랩, NV )

E-beam Lithography 장비사용 이론 및 실습

교육특징

양자기술구현에 범용적으로 활용가능한 E-beam Lithography 장비를 직접 사용할 수 있는 신진양자기술인력 양성

수강인원

9(이론:9*1, 실습:3*3)

활용장비

E-beam Lithography, Track

<이론교육>

일 정

주 제

교육내용

1일차

13:00~14:00

오리엔테이션

교육 과정 안내 및 조 편성

14:00~18:00

양자역학의 기초

양자역학의 탄생, 슈레딩거 방정식유도 및 해석,

중첩, 얽힘의 개념과 코펜하겐 해석

2일차

13:00~15:00

양자 컴퓨터 기본원리

Bit vs Qubit,비교, Quantum supremacy, 양자 알고리즘 및

응용분야 소개

15:00~18:00

Qubit의 표현/

양자 게이트

Quantum logic gate, Coherence time 측정 등

3일차

13:00~15:00

양자컴퓨터의 종류

초전도, 이온트랩, 양자점 및 Diamond NV 방식의 원리와 구조

이해

15:00~18:00

초전도 방식의 원리

초전도 방식 qubit (인공원자)의 종류 및 동작 원리, Readout

방법 등

<실습교육>

일 정

주 제

교육내용

1일차

09:30~12:00

공정이론

E-beam Lithography 기본원리 및 장비특징 이해

13:00~14:30

패턴디자인 준비

GDS design 구조 설명 및 패턴변환 실습

15:00~18:00

Wafer 준비

Resist coating, Wafer Loading/Unloading 실습

2일차

09:30~12:00

Job 작성

Job deck 작성법 및 Array 개념이해

13:00~15:00

Beam Calibration

Beam Current 설정, Beam calibration, Expose, Development

15:30~18:00

Training

교육 내용 실습

3일차

09:30~12:00

Self Training

개인별 Wafer Job 준비

13:00~18:00

Training

보충 교육 및 전체 공정 실습 (필요시개별휴식)

위 일정은 교육 여건 및 상황 등에 따라 변동될 수 있습니다.